EPROM: Perbedaan antara revisi

Penghapusan EPROM mulai terjadi dengan panjang gelombang yang lebih pendek dari 400 [[Nanometer|nm]]. Waktu paparan sinar matahari dari satu minggu atau tiga tahun untuk kamar fluorescent pencahayaan dapat menyebabkan penghapusan. Direkomendasikan penghapusan prosedur adalah paparan sinar UV di 253.7&#x20;nm minimal 15 W-sec/cm2 selama 20 sampai 30 menit, dengan lampu pada jarak sekitar 2,5&#x20;cm.{{Butuh rujukan|date=November 2014}}{{Quote|Erasure, however, has to be accomplished by non-electrical methods, since the gate electrode is not accessible electrically. Shining ultraviolet light on any part of an unpackaged device causes a photocurrent to flow from the floating gate back to the silicon substrate, thereby discharging the gate to its initial, uncharged condition ([[photoelectric effect]]). This method of erasure allows complete testing and correction of a complex memory array before the package is finally sealed. Once the package is sealed, information can still be erased by exposing it to X radiation in excess of 5*10⁴ [[Rad (unit)|radrads]]s,{{Efn | 500 [[Joule|J]]/kg}} a dose which is easily attained with commercial X-ray generators.<ref>{{Citation | date = May 10, 1971 | title = [[Electronics (magazine)|Electronics Magazine]] | type = article | first = Dov | last = Frohman}}.</ref>|text=Pengahpusannya, harus dilakukan dengan metode non-elektrik, karena elektroda gerbang tidak dapet diakses secara elektrik. Sinar ultraviolet tinggi dalam bagian perangkat yang tidak dilindungi akan menyebabkan arus fotolistrik, sehingga mengubah pemakaian gerbang ke kondisi awal dan tidak bermuatan ([[photoelectric effect]]). Metode penghapusan ini memungkinkan pengujian dan koreksi lengkap dari array memori yang kompleks sebelum paket tersebut akhirnya disegel. Setelah paket disegel, informasi masih dapat dihapus dengan mengeksposnya ke radiasi X lebih dari 5 * 104 rad, dosis yang mudah dicapai dengan generator sinar-X komersil.}}{{Quote|In other words, to erase your EPROM, you would first have to X-ray it and then put it in an oven at about 600 degrees Celsius (to anneal semiconductor alterations caused by the X-rays). The effects of this process on the reliability of the part would have required extensive testing so they decided on the window instead.<ref name = "jmargolin_com-eprom">{{cite web|title= EPROM |url=http://www.jmargolin.com/patents/eprom.htm | date = May 8, 2009 | first = J | last = Margolin}}.</ref>|text=Dengan kata lain, untuk menghapus EPROM Anda, Anda harus terlebih dahulu melakukan X-ray dan kemudian memasukkannya ke dalam oven sekitar 600 derajat celcius (untuk perubahan semikonduktor anneal yang disebabkan oleh sinar-X). Efek dari proses ini pada keandalan bagian akan memerlukan pengujian ekstensif sehingga mereka memutuskan pada jendela sebagai gantinya.}}EPROM memiliki jumlah terbatas namun banyak siklus penghapusan; silikon dioksida di sekitar gerbang akan mengumpulkan kerusakan dari setiap siklus, membuat chip tidak dapat diandalkan setelah beberapa ribu siklus. Pemrograman EPROM lambat dibandingkan bentuk memori lainnya. Karena bagian kepadatan tinggi memiliki sedikit oksida terbuka di antara lapisan interkoneksi dan gerbang, penghapusan sinar ultraviolet menjadi kurang praktis untuk ingatan yang sangat besar. Bahkan debu di dalam kemasan bisa mencegah beberapa sel terhapus.{{Sfn|Sah|1991}}