Fotolitografi: Perbedaan antara revisi

''Photoresist'' yang sudah tidak digunakan lagi dihilangkan dengan pembuangan basah (''wet stripping'') dengan pelarut dan [[plasma]]. Pembuangan basah dapat dilakukan dengan pelarut [[organik]] atau [[non organik]] seperti [[aseton]].

 

*[[Nanolitografi]]

*[[Litografi lunak]]