Berkas:Locos (microtechnology) process.svg
Ukuran pratayang PNG ini dari berkas SVG ini: 385 × 599 piksel Resolusi lainnya: 154 × 240 piksel | 309 × 480 piksel | 494 × 768 piksel | 658 × 1.024 piksel | 1.317 × 2.048 piksel | 512 × 796 piksel.
Ukuran asli (Berkas SVG, secara nominal 512 × 796 piksel, besar berkas: 27 KB)
Riwayat berkas
Klik pada tanggal/waktu untuk melihat berkas ini pada saat tersebut.
Tanggal/Waktu | Miniatur | Dimensi | Pengguna | Komentar | |
---|---|---|---|---|---|
terkini | 14 Desember 2009 19.02 | 512 × 796 (27 KB) | Cepheiden | some fixes | |
19 Januari 2008 16.53 | 625 × 1.000 (56 KB) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
Penggunaan berkas
Halaman berikut menggunakan berkas ini:
Penggunaan berkas global
Wiki lain berikut menggunakan berkas ini:
- Penggunaan pada ca.wikipedia.org
- Penggunaan pada en.wikipedia.org
- Penggunaan pada en.wikiversity.org
- Penggunaan pada fa.wikipedia.org
- Penggunaan pada fr.wikipedia.org
- Penggunaan pada it.wikipedia.org
- Penggunaan pada ja.wikipedia.org
- Penggunaan pada mk.wikipedia.org
- Penggunaan pada nl.wikipedia.org
- Penggunaan pada pt.wikipedia.org